納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整?；鞈乙菏侵福阂怨腆w顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。
一、產(chǎn)品概述
納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機，混懸劑均質(zhì)機，納米醫(yī)藥混懸液分散機，納米高剪切分散機，納米混懸液制備設備，納米混懸液分散機，進口分散機，分散機廠家，分散機價格
二、產(chǎn)品簡介
納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。混懸液是指：以固體顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。
混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題?；鞈乙褐兴幬镂⒘７稚⒍却?/span> ，微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液，應減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。
納米醫(yī)藥混懸液分散機，高剪切條件下的混懸液，高速通過工作腔定轉子間隙，由于轉子高速轉動，物料在定轉子間隙內(nèi)，高速撞擊、剪切等綜合效應，將較大的顆粒粉碎成很小的微粒，它們的直徑在0.01-2μm范圍內(nèi)。這個純粹的物理過程保持產(chǎn)品原有的活性，與此同時，細化了顆粒，獲得相對穩(wěn)定的混懸液。
三、納米高剪切分散機的特點
1具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
2該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的分散混合。
3三級分散機由定、轉子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
四、GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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